Microhezao系列离子溅射仪，它的真空系统是由小型真空泵组成，能提供良好的真空溅射镀膜环境，真空度可达0.1Pa。全自动控制，只要一键操作就可以自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程。仪器选用离子溅射镀金属膜，满足高分辨率场发射电镜的需求，可以获得极其细腻的金属膜，也可以用于电极样品制备等特殊用途。
　　离子溅射仪集合了二极溅射模式之精华，并经重新定义设计，独特的电流与真空度记录曲线相结合可以进行常规的样品制样，还可以满足各种复杂特殊材料的样品制备要求，对于高分子薄膜，地质材料，半导体材料等各种样品的制备可以轻松应用。
　　离子溅射仪-溅射过程
　　将需要溅射的样品放入离子溅射仪的样品仓中，盖好样品仓的外罩，可以打开真空泵的电源按键，开始进行抽真空。
　　当样品仓中的剩余压力或注入的惰性气体的压力在5Pa左右既可以接通溅射电源。
　　在靶材上加上负高压，靶材与阳极之间构成一个负高压电场区域，腔体的残余空气或注入的惰性气体就会被电离，带正电的正离子被阴极吸引桩基靶材，产生辉光现象。
　　靶材释放出来的原子或原子团之间，以及它们与腔体其他残余气体、离子相互碰撞，金属原子或原子团四处发散形成雾状，然后降落并沉积在试样表面就会形成一层比较均匀而细腻的金属膜。
　　溅射层的膜厚主要取决于溅射时间的长短和溅射电流的大小。
　　溅射层金属颗粒的细腻程度取决于靶材的成分、溅射方式、试样的温度、溅射电流的大小和试样与靶材的距离，此外还与溅射的真空度有关，真空度越高，冲入的惰性气体就会越纯，溅射后形成的膜层傀儡也就越细腻。
　　离子溅射仪常用的靶材有金、金靶、铂、铬、铱等。